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【2h】

Optical emission spectroscopy as a tool for studying, optimizing, and monitoring plasma-assisted atomic layer deposition processes

机译：发射光谱作为研究，优化和监控等离子体辅助原子层沉积过程的工具

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Mackus, AJM Adrie; Heil, SBS Stephan; Langereis, E Erik; Knoops, HCM Harm; Sanden, van de, MCM Richard; Kessels, WMM Erwin;
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年度 2010
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